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光刻技术
上海微系统所研发3D电子束光刻技术可用于智能仿生感知
电子束光刻精度极高，通常是二维微纳加工获得最小尺寸的标准工具，如何把电子束光刻的能力拓展到真三维微纳加工是研究的努力方向。
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新型光刻技术解决硅材料脆性难题，MEMS机械性能极限有望突破
据麦姆斯咨询介绍，硅材料从大自然常见的沙子中取材，成本低、产量大，因此被广泛用作MEMS器件的衬底材料，并被誉为信息时代的“骨干”材料。
06/22
欧盟研发纳米结构传感器阵列技术获突破
欧盟研发纳米结构传感器阵列技术获突破，其利用最先进的纳米压印光刻技术，整合卷到卷生产制造工艺，实现了低成本大批量制造生产大面积NSA的工业流程设计和设备样机开发，奠定了NSA进一步商业化推广应用的基础。
12/04
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